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1. [单选题]龈沟上皮的组织学特点是
  A. 单层柱状上皮,无角化,无上皮钉突 
  B. 假复层柱状上皮,无角化,有上皮钉突 
  C. 复层鳞状上皮,无角化,无上皮钉突 
  D. 复层鳞状上皮,有角化,无上皮钉突 
  E. 复层鳞状上皮,无角化,有上皮钉突 
 
2. [单选题]模型底座厚薄适宜,一般腭顶和口底,的最薄处应保持
  A. 3~5mm 
  B. 1~2mm 
  C. 5~10mm 
  D. 10~20mm 
  E. 30mm 
 
3. [单选题]上颌向近中颊侧倾斜的末端孤立的健康磨牙经常设计的卡环类型是
  A. 圈形卡环 
  B. 双臂卡环 
  C. 回力卡环 
  D. 对半卡环 
  E. 倒钩卡环 
 
4. [单选题]中国人调查牙尖交错位与下颌后退接触位不是同一位的有
  A. 12% 
  B. 8% 
  C. 88% 
  D. 50% 
  E. 92% 
 
5. [单选题]没有覆盖前牙唇面或后牙颊面的部分冠修复体为
  A. 嵌体 
  B. 半冠 
  C. 烤瓷熔附金属全冠 
  D. 桩冠 
  E. 3/4冠 
 
6. [单选题]琼脂印模材料的胶凝温度为
  A. 36~40℃之间 
  B. 60~70℃ 
  C. 30℃以下 
  D. 0℃以下 
  E. 52~55℃ 
 
7. [单选题]CAD/CAM系统的外部设备主要构成是
  A. 计算机、计算机辅助设计部分、计算机辅助制作部分 
  B. -计算机辅助设计部分、计算机辅助制作部分、数控软件 
  C. 数控机床、计算机辅助设计部分、计算机辅助制作部分 
  D. 计算机、三维测量装置、数控机床 
  E. 三维测量装置、计算机辅助设计部分、计算机辅助制作部分 
 
8. [单选题]熔模铸造后的精度受影响的主要原因是
  A. 冷却过程中的收缩 
  B. 复制模型材料的影响 
  C. 熔模在铸型中位置的影响 
  D. 铸件的冷却方法 
  E. 以上均是 
 
9. [单选题]记存研究模型的修整,基底部分的高约为解剖部分的
  A. 1/3~1/2 
  B. 1/4~1/2 
  C. 2/3~3/4 
  D. 1/5~1/3 
  E. 1/2~3/4 
 
10. [单选题]在包埋熔模时,以下不正确的是
  A. 如采用有圈铸型时,需在金属铸圈的内壁衬垫一层厚度适宜的缓冲材料 
  B. 包埋前需用蜡将铸圈与铸型底座相接触区域封牢 
  C. 调好的包埋材料需大量快速地注入铸圈内 
  D. 包埋材料需用真空调拌机进行调拌 
  E. 包埋材料需由铸圈底部缓慢上升直至灌满整个铸型 
 
11. [单选题]牙齿萌出不全或阻生时,牙冠周围软组织发生的炎症称
  A. 牙龈炎 
  B. 牙周炎 
  C. 冠周炎 
  D. 牙髓炎 
  E. 根尖周炎 
 
12. [单选题]隐形义齿戴牙后固位不良,可能原因如下,除外
  A. 患者基牙过短 
  B. 戴牙时调磨过多 
  C. 义齿变形 
  D. 基牙倒凹过大 
  E. 义齿卡环部分过薄 
 
13. [单选题]下列哪种在印模材料中不属缓凝剂
  A. 无水碳酸钠 
  B. 磷酸钠 
  C. 草酸盐 
  D. 硅酸盐 
  E. 磷酸盐 
 
14. [单选题]以下水门汀的固化为放热反应的是
  A. 氧化锌丁香酚水门汀 
  B. 磷酸锌水门汀 
  C. 聚羧酸锌水门汀 
  D. 氢氧化钙水门汀 
  E. 玻璃离子水门汀 
 
15. [单选题]糊剂型藻酸盐印模材料应用时,糊剂与胶结剂的体积比为
  A. 1:2~1:3 
  B. 1:1~2:1 
  C. 2:1~3:1 
  D. 3:1~4:1 
  E. 4:1~5:1 
 
16. [单选题]义齿基托打磨抛光,下列错误的是
  A. 系带区基托边缘厚度应比其他部分薄 
  B. 组织面应适当打磨抛光 
  C. 上颌义齿基托后缘应与组织面自然衔接 
  D. 基托边缘有一定厚度 
  E. 打磨时不应损坏牙龈形态 
 
17. [单选题]制作耐火材料代型瓷贴面,底层瓷涂塑厚度约为
  A. 0.1mm 
  B. 0.2mm 
  C. 0.3mm 
  D. 0.4mm 
  E. 0.5mm 
 
18. [单选题]小管数量少而弯曲、内含细胞的牙本质是
  A. 管周牙本质 
  B. 管间牙本质 
  C. 球间牙本质 
  D. 前期牙本质 
  E. 骨样牙本质 
 
19. [单选题]拍摄TMJ的许氏位X线片的主要目的不是为了了解
  A. 关节间隙情况 
  B. 骨结构表面情况 
  C. 关节盘的位置情况 
  D. 髁突的运动度 
  E. 髁突的位置 
 
20. [单选题]可摘局部义齿缺牙数目较多时,应考虑
  A. 基托蜡型适当加大 
  B. 基托蜡型适当减小 
  C. 不需要制作唇侧基托 
  D. 基托蜡型适当变薄 
  E. 基托蜡型适当加厚